機(jī)械設(shè)備
真空鍍膜機(jī)械設(shè)備,真空鍍膜機(jī)械設(shè)備有限公司
2024-01-26 21:53:59 機(jī)械設(shè)備 0人已圍觀
大家好,今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話題,就是關(guān)于真空鍍膜機(jī)械設(shè)備的問題,于是小編就整理了2個(gè)相關(guān)介紹真空鍍膜機(jī)械設(shè)備的解答,讓我們一起看看吧。
真空鍍膜機(jī)怎么關(guān)閉?
真空鍍膜機(jī)關(guān)閉
關(guān)機(jī)順序
1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。
3. 到50以下時(shí),再關(guān)維持泵。
關(guān)電離計(jì),關(guān)閉高閥,切斷加熱器電源,用前級(jí)泵抽前級(jí)自然降至室溫,關(guān)前級(jí)管道閥,停止機(jī)械泵,停冷卻水、停電、停氣。
cvd真空鍍膜工藝流程?
關(guān)于這個(gè)問題,CVD真空鍍膜工藝流程包括以下步驟:
1. 清洗:將待鍍物品進(jìn)行清洗,去除油污、灰塵等雜質(zhì)。
2. 負(fù)載:將待鍍物品放入真空室內(nèi)。
3. 抽真空:將真空室內(nèi)的氣體抽出,降至一定的真空度。
4. 預(yù)處理:在真空環(huán)境下對(duì)待鍍物品進(jìn)行一定的處理,如表面處理、加熱等,以提高鍍膜質(zhì)量。
5. 鍍膜:將鍍膜材料在真空環(huán)境下加熱,使其蒸發(fā),然后沉積在待鍍物品表面形成膜層。
6. 退火:對(duì)鍍膜進(jìn)行熱處理,使其結(jié)構(gòu)更加致密,提高鍍膜質(zhì)量。
7. 冷卻:待鍍物品從真空室內(nèi)取出,進(jìn)行冷卻處理。
8. 檢驗(yàn):對(duì)鍍膜進(jìn)行檢驗(yàn),檢查其厚度、質(zhì)量等指標(biāo)是否符合要求。
9. 封裝:對(duì)鍍膜進(jìn)行封裝,保護(hù)其不受外界影響。
CVD的工藝有著與氧化或擴(kuò)散等相同的步驟?;仡櫼幌拢@些步驟包括預(yù)清洗(T藝要求的刻蝕)、G548A2P1UF淀積和評(píng)估。我們已經(jīng)描述過清洗工藝,即用于去除微粒和可動(dòng)的離子污染。化學(xué)氣相淀積,如氧化是以循環(huán)的方式進(jìn)行的。
首先,將晶圓裝載到反應(yīng)室內(nèi),裝載過程通常是在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行的。
然后,晶圓被加熱到預(yù)定溫度,將反應(yīng)氣體引入淀積薄膜的反應(yīng)室內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)。
最后,將參與反應(yīng)的化學(xué)氣體·排出反應(yīng)室,移出晶圓。薄膜的評(píng)估包括厚度、臺(tái)階覆蓋、純度、清潔度和化學(xué)成分。
CVD真空鍍膜工藝流程主要包含以下步驟:
1. Superintendent鋼材清洗。將基板進(jìn)行酸洗、堿洗、超聲波清洗等工序,清除表面油污、氧化層和其他雜質(zhì),獲得清潔光亮的表面。
2. 真空泵抽空。將清洗后的鋼材基板放入CVD設(shè)備的反應(yīng)室內(nèi),并使用真空泵將反應(yīng)室抽至高度真空狀態(tài),一般達(dá)到10^-4 Pa以下。
3. 加熱基板。使用電阻絲或高頻感應(yīng)加熱基板至一定溫度,為后續(xù)的化學(xué)反應(yīng)鋪墊環(huán)境。溫度一般在200-500°C之間。
4. 反應(yīng)物輸送。將反應(yīng)蒸汽如硅烷、乙炔等通過精確的流量計(jì)控制輸送至反應(yīng)室內(nèi)。
5. 反應(yīng)工藝。加熱后的基板與反應(yīng)物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),在基板表面形成想要得到的膜層,如SiOx、TiO2、SiC等。溫度、反應(yīng)物流量和反應(yīng)時(shí)間的控制至關(guān)重要。
6. 冷卻基板。反應(yīng)結(jié)束后,停止供應(yīng)反應(yīng)物,并通入惰性氣體如氮?dú)鈱?duì)反應(yīng)室進(jìn)行置換。然后使用 circulating water 冷卻基板至室溫。
7. 大氣開槽。使用真空泵將反應(yīng)室從高真空狀態(tài)恢復(fù)至大氣壓力,然后取出基板。
8. 檢測(cè)膜層性能。使用XRF、SEM等手段檢測(cè)所得膜層的厚度、成份、結(jié)構(gòu)等信息,確認(rèn)是否達(dá)到預(yù)期要求。
9. 后續(xù)工序。對(duì)鍍膜好的基板進(jìn)行后續(xù)切割、拋光、彎曲等工序,或直接使用。
CVD真空鍍膜是一種將蒸發(fā)源材料分解并在基板表面形成薄膜的過程。以下是一般的CVD真空鍍膜工藝流程:
1. 真空泵抽真空:將反應(yīng)室的氣體排出,達(dá)到所需真空度。
2. 物質(zhì)輸送:將反應(yīng)室里的氣體輸送到底部的蒸發(fā)源區(qū)域。
3. 氣體預(yù)處理:如果需要,將氣體在反應(yīng)室內(nèi)加熱或冷卻。
4. 反應(yīng):讓底部的蒸發(fā)源材料分解并在基板表面形成薄膜。
到此,以上就是小編對(duì)于真空鍍膜機(jī)械設(shè)備的問題就介紹到這了,希望介紹關(guān)于真空鍍膜機(jī)械設(shè)備的2點(diǎn)解答對(duì)大家有用。
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